伴随着半导体技术进入7nm以内，EUV光刻机是不可或缺的关键设备，世界上只有ASML公司生产现在，NA 0.33光圈的EUV光刻机价格高达1.5亿美元，约十亿，但下一代会更贵

制造光刻机芯片的关键指标是光刻分辨率，其中透镜的NA数值孔径越大越好现在NA 0.33口径的EUV光刻机已经可以量产3nm和2nm工艺，接下来就需要下一代NA 0.55口径的光刻机，也就是高NA EUV，所以需要制造2nm以下的工艺

高纳EUV预计明年开始向客户生产原型车这次，英特尔抢购了第一批高NA EUV光刻机，据说单价超过3.4亿美元，约合25亿美元

不过，高钠EUV的最终价格仍不确定，未来可能达到4亿美元，超过28亿人民币。

高NA EUV光刻机不仅价格昂贵，而且使用起来也越来越贵，因为功耗会不断上升ASML最近证实，高NA EUV光刻将额外消耗0.5 MW的功耗，以目前的1.5MW功耗计算，下一代光刻机的总功耗将达到2MW，即200万瓦

如果一天24小时运行，那么下一代光刻机每天就要消耗48000度电，这对芯片厂商来说是非常高的成本，是绝对的功率老虎。